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        硬質(zhì)合金刀具涂層方法之一是化學氣相沉積技術，化學氣相沉積英文名為：chemical vapor deposition，簡稱CVD，是通過化學反映的方式，利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源，在反映器內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)在氣相或氣-固界面上經(jīng)化學反映形成固態(tài)沉積物的技術。

        其古老原始形態(tài)可以追溯到古人類在取暖或燒烤時熏在巖洞或巖石上的黑色碳層，作為現(xiàn)代化學氣相沉積技術發(fā)展的開始階段在20世紀50年代主要著重于硬質(zhì)合金刀具涂層的應用。從20世紀60-70年代以來由于半導體和集成電路技術發(fā)展和生產(chǎn)的需要，CVD技術得到了更迅速和更廣泛的發(fā)展。

        進行化學氣相沉積需要具備以下條件：

        一是足夠高的溫度?；旌蠚怏w中某種成分分解并與基體表面相互作用形成化合物吸收一定的能量，也就是說，進行上述過程必須有一定的激活能，該激活能必須由加熱基體表面獲得，因而需要足夠高的溫度。通常CVD的反映溫度在900℃~2000℃，它取決于沉積物的特性。

        二是要有混合氣體參加?；旌蠚怏w主要是惰性氣體(如Ar氬)，還原氣體(如H₂)和反應氣體(如N₂、CH₄、CO₂、NH₃、水蒸氣等)。有時采用高飽和蒸氣壓的液體，把它們加熱到一定溫度(<60℃)，通過載體氫、氬與起泡的液體，從供氣系統(tǒng)中把上述蒸氣帶入沉積反映室。

        化學氣相沉積是建立在化學反應基礎上通過一個或者多個化學反映實現(xiàn)的沉積，所以要制備特定性能材料首先要選定一個合理的沉積反應。常用的化學氣相沉積技術通常有4種反映類型：

        1.熱分解反應沉積

        2.氧化反應沉積

        3.還原反應沉積

        4.水解反應

        20世紀60年代以來，CVD技術廣泛用于硬質(zhì)合金可轉位刀具的表面處理，1968年，瑞典山特維克向市場推出第一批化學氣相沉積TiC涂層硬質(zhì)合金刀片。此后，美國、日本等國也相繼生產(chǎn)同類產(chǎn)品。多年來，化學氣相沉積CVD涂層技術不斷改進，從最初只制備單一成分涂層發(fā)展到多元多曾符合涂層的制備技術，20世紀80年代中后期，美國已經(jīng)85%的硬質(zhì)合金刀具工具采用表面涂層處理，其中CVD涂層占大到99%，目前，CVD涂層硬質(zhì)合金刀片在涂層硬質(zhì)合金刀具中占到了80%左右的分額。

        硬質(zhì)合金刀具涂層技術的發(fā)展使硬質(zhì)合金刀具的使用壽命成倍的提高，也是社會經(jīng)濟持續(xù)高速發(fā)展的使用要求。

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